微細加工に伴ったフォトレジストの進化について

質問

半導体製造においてさらなる微細化を目指して，これからF2レーザやEUV，電子線，X線へと光源は短波長化されてますよね？
それに伴ってリソグラフィーにおけるフォトレジストもそれぞれの波長域に適したものへとシフトしていくと思うんですけど，その開発が難しいといくつかの文献やホームページで拝見しました．
調べてみると実験室段階だけなのかもしれませんが，それぞれに適したフォトレジストはすでに開発され，使用されているような気がするんです．
もし，開発が難しいのならどの辺が技術的に困難なのかを知りたいです．単にその波長域に反応する材料がないだけなのでしょうか？？
どうか御教示お願いいたします．

回答No.1

noname#160321 · ベストアンサー

中途半端な知識しかないのでアドバイスだけ。
>>フォトレジストもそれぞれの波長域に適したものへとシフトしていくと思うんですけど，その開発が難しいといくつかの文献やホームページで拝見しました．
>>調べてみると実験室段階だけなのかもしれませんが，それぞれに適したフォトレジストはすでに開発され，使用されているような気がするんです．

それぞれの文献やHPのURLなど示していただければ、結構多くの方が答えられると思います。ご質問は大づかみすぎるので本当によく分かった方にしか答えられないでしょう。

一般に実験室段階で全く問題なくても製品化(実用化)出来ない場合はざっと思いつく儘でも５つあります。
１．原料が製品の能力に比して高価すぎる。
２．大量生産プロセスに化学工学的問題がある。
３．特許で縛られていて、ライセンス料が高すぎる。
４．有毒物を使ったり、有毒物が残ったり、廃棄物が有毒で一般消費者向けに使用したり、工業生産プロセスに乗せられない。
５．電子線などは真空設備が必要でLSI製造に手間がかかったり、設備投資が大きすぎる。
他にもいろいろ考えられますから、補足をお願いします。

お礼

さっそくの回答ありがとうございます．

将来どの程度まで微細加工が実現可能か気になって調べるうちにレジストの役割について気になってしまったもので．．．
一日考え，調査した上で自分がどの辺がわからなくなって質問させていただいたのかがわからなくなってしまいました．
このように質問の焦点が絞りきれていない状態で質問をしてしまい，申し訳なかったと思っています．

実用化の際の問題点としてdoc_sundayさんの回答はとても理解しやすく，ためになりました．と，いいますか，この回答によって僕の中のハテナがすべて消えうせた感じです．
ありがとうございました．