リソグラフィーの現状

質問

ＬＳＩ微細化の方法でリソグラフィーというのがあるそうですが現状では光源やシステムはどうなっているのですか？あと微細化する利点として抵抗が1/Kになるので電力が抑えられるということを上げられてる文献もありますが、そのまま相似的に小さくしたら抵抗って大きくなりませんか？

回答No.1

sanori

ＫｒＦエキシマレーザーかＡｒＦエキシマレーザーが現状の生産ラインの最先端になっています。
ちょっと昔まではｉ線が、その前まではＧ線が最先端でした。
詳しくは参考ＵＲＬをどうぞ。

あと、抵抗が微細化で１／Ｋになるというのは、その文献がどういうスケーリングで考えているのかわかりませんが、
定電圧スケーリングで考える限り、話は全く逆で、配線長が１／Ｋになっても配線の断面積は１／Ｋ^2になってしまうので、抵抗はＫで増大していきます。
（たとえ配線膜厚一定で考えたとしても、配線幅の減少分、断面積は１／Ｋになってしまいます。）

配線抵抗増大に伴う配線遅延は、微細化するほど問題になってくるのです。

参考URL：

http://www.ave.nikon.co.jp/pec_j/products/index.htm