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蒸気圧と結合エネルギー
Siをプラズマエッチングする際、一般的に用いるガスとしてはHBr, F系(SF6,CF4), Cl2が挙げられますが、 蒸気圧(SiCl4,SiF6,SiBr4)と、結合エネルギー(Si-Cl,Si-Br,Si-F,Si-O)のそれぞれの大小関係と数値を調べたく考えております。 どこかに良い文献などありませんでしょうか？
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noname#160321
回答No.1
GelEst社様のページから、↓(有機物でのＳi－Ｘの値) http://www.gelest.com/Library/10BondDiss.pdf ＳｉＸ4の蒸気圧はKirk-Othmerにあるようです。↓ http://mrw.interscience.wiley.com/emrw/9780471238966/kirk/article/silicoll.a01/current/abstract ネットもそこまで甘くない。^^
お礼
助かりました。ありがとうございます。