evaporationでOKですよ。蒸着という意味で使えます。
Al contact layer was formed by evaporation.
evaporationだけだと、普通の抵抗加熱による蒸着。丁寧に言うと、
vacuum evaporationですね。他に、電子ビーム蒸着だったら、
e-beam evaporation、レーザービーム蒸着だったら、laser beam
evaporationとなります。
depositionだけですと、「成膜」全般の意味になりますので、
下にあります、CVD(化学気相成長法)とか、sputter deposition
(スパッタリング)にも使われます。
以上
お礼
なるほどと思われる訳ですね。参考になりました