高周波イオンプレーティング法

質問

薄膜工学で利用される高周波イオンプレーティング法について質問です。

この方法では蒸発物質をイオン化するためにプラズマを利用していますが、プラズマの発生原理を教えてください。

１．チャンバー内にガスを導入して内部を10の－２乗Pa程度の減圧状態にする
２．高周波コイルに高周波を印加するとプラズマが発生する

と、ある本に書いてありましたが、なぜコイルに高周波を印加するとプラズマが発生するのでしょうか？

回答No.1

mistery200 · ベストアンサー

プラズマが発生しているというより、ガスに絶縁破壊が生じていると考えましょう。気体の絶縁破壊です。
周波数が高いほど、気圧が低いほど、気体は絶縁破壊を起こしやすくなります。
絶縁破壊が連続している気体はプラズマ状になります。

お礼

気体の絶縁破壊を利用しているんですね。
御回答ありがとうございます。