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HF濃度
HF(0.97wt%)+H2O2(2.00wt%)+H2Oの溶液中に連続して酸化膜付Si_Waferを投入するとHF濃度が0.92wt%まで低下します、なぜこのような現象が起こるのでしょうか?
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noname#160321
回答No.1
細かいことは分りませんが、SiOF2ができるので、フッ素濃度は下がるでしょう。
HF(0.97wt%)+H2O2(2.00wt%)+H2Oの溶液中に連続して酸化膜付Si_Waferを投入するとHF濃度が0.92wt%まで低下します、なぜこのような現象が起こるのでしょうか?
細かいことは分りませんが、SiOF2ができるので、フッ素濃度は下がるでしょう。
お礼
回答有難う御座います、SiOF2が生成される化学式はどうなるのでしょうか?