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脱気による効果について
サイクリックボルタンメトリーで、溶存酸素を取り除くことで、 水素電位発生電位を下げることができ、それによりより広い範囲の酸化還元反応を見ることが出来ますが、 この脱気による効果は酸素発生電位にも影響はあるのでしょうか? ワーキングで酸素が発生するということは、カウンターで水素が発生しているということであり、 このカウンターでの水素発生を抑えるということはワーキングの酸素発生電位も大きくなりそうな気がするのですが、どうでしょうか? 他にも脱気によるメリットがありましたら教えて下さい。
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> 溶存酸素を取り除くことによるメリットは何なのでしょうか? 溶存酸素そのものを還元する電流が流れなくなるとか(その分,卑側の電位窓を広げられる),溶存酸素によって溶存種の何かが酸化されるとかの反応を考える必要がなくなるとか. > もちろん水素の気泡が出るという意味ではなく、ピークの出る位置が卑側にシフトするという意味です。 溶存酸素自体の還元電流が減ることを誤解しているだけではありませんか? > 非水溶媒を使えば 溶媒が何であるかは関係ありません.溶存酸素の還元がおこれば,その領域での肝心の測定対象の電流は解析不可能になる,だからその領域が問題になるなら脱気します.溶存種や電解生成物等が酸素と反応するなら脱気します. たとえばフェロシアン化カリなら容易に空気酸化されるので脱気します.しかし,フェリシアンならそれ自体は酸化されず,CV等で観察するときに生成するフェロシアンも,通常の測定条件(主に掃引速度で決まる測定時間)では溶存酸素による影響は大きくないので脱気しなくてもよい場合もある.それだけのことです.
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- c80s3xxx
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> 溶存酸素を取り除くことで、 > 水素電位発生電位を下げることができ、 誤解です.できません. > この脱気による効果は酸素発生電位にも影響はあるのでしょうか? ありません. > このカウンターでの水素発生を抑えるということはワーキングの酸素発生電位も大きくなりそうな気がするのですが、どうでしょうか? ポテンショスタットの動作を完全に誤解しています.対極に影響されるようではポテンショスタットの意味がありません.
どの溶媒でCVを測定されているなのか分かりませんが、幅広い電位範囲を測定するには「脱水溶媒」を用いる事により、SCEやAg/AgClに対して-2V以下の電位まで観測することが出来ます。 >ワーキングで酸素が発生する >カウンターで水素が発生している CVにおける電流の大きさは非常に小さいので気体が気泡になるほど大きくなる事はありません。気泡になったら不可逆過程になってしまいます。それではCVのメリットは無くなります。 >カウンターでの水素発生を抑える そんな事をしたら、CVではなくなってしまいます。避けて下さい。
お礼
どういうことなのでしょうか? では溶存酸素を取り除くことによるメリットは何なのでしょうか? 確かに水素発生電位が小さくなる、というふうに教わったのですが・・・ もちろん水素の気泡が出るという意味ではなく、ピークの出る位置が卑側にシフトするという意味です。 非水溶媒を使えば酸素水素は出ないのかも知れませんが(出るのですか?)、pHを調整する必要がある場合など水溶媒系でしかうまく反応が進まない場合には仕方がないのではないでしょうか?