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ニッケルと窒素の関係 カーボンナノチューブ
SiにNiを堆積させた基盤に反応ガスとして水素と窒素の混合ガス、炭素源にエタノールを用いてカーボンナノチューブの合成を行っているのですが全く結果がでない状態です。 過去の研究でFeを堆積させた基盤では合成に成功しているので、Niと窒素が何かしらの反応をしていると思います。 窒素の反応などに詳しい方いましたら回答お願いします。
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全くの素人なのですが、混合ガスを吹かした段階で、Si/Fe基盤とSi/Ni基盤になんらかの差異は見られないのですか？ Ni表面でN2のアクティベーションなど起こっているのかな？とも思いましたが。XPSとかで分析はされているのでしょうか。 他のより詳しい方への補足になるかと思います。
お礼
Si/Fe基盤は今年の研究ではつくっていないので比較できない状態です。 XPS装置は学校に一台しかなく予約がとれないんです・・・