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プラズマCVDについて
全くの初心者な質問で申し訳ありません。 半導体製造設備にプラズマCVDという装置がありますが、この設備はイオン注入に使われる事がありますでしょうか? 実はエネルギー管理士という試験で、これに関する問題が出まして、公式回答はNOなのですがあと1問正解が出ると合格になるかどうかな瀬戸際なもので…。 詳しい方がおられましたらご教授願います。
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>半導体製造設備にプラズマCVDという装置がありますが、この設備はイオン注入に使われる事がありますでしょうか? あくまでもプラズマを立てて原料ガスを流す装置であって、 イオンの加速源がないので、インプラできません。
お礼
やはりそうでしたか。 ありがとうございました。