表面レリーフ格子はアブレーション？

質問

アゾ高分子薄膜に２光測干渉光を照射することで光誘起表面レリーフ格子が形成されますが，表面レリーフ格子がどのような過程で形成されるのでしょうか．アブレーションですか？
また，この格子は光を吸収しさえすれば形成されるのでしょうか．教えてください．

回答No.1

noname#11476

アブレーションではないでしょう。
少し考えればわかることですが、アブレーションだと非可逆になりますね。
まずは、論文を読むことです。

"The mechanism for surface relief grating formation in azobenzene functionalized polymers"
Jayant Kumar, Lian Li, and Xin Li Jiang, Dong-Yu Kim, Taek Seung Lee, and Sukant Tripathy
Applied Physics Letters, Vol.72, Nmber 17, 27, p2096-2098, April 1998

なんてよいのでは？

お礼

ありがとうございます．
表面レリーフは可逆なのですか．知りませんでした．
早速読んで見たいと思います．