シリコン表面に酸化膜を成膜した場合の接触角について

質問

シリコン表面に酸化膜を成膜した時，
表面が親水性になることが実験などからわかったのですが，
酸化膜の厚みなどの影響を受けるかなど調べてみても
わからないことがあるので，わかる方教えてください．

また，酸化膜⇒親水性に対して
サイトップ塗布⇒疎水性でも同様の事が言えるか教えて頂けませんか？

回答No.1

sanori

こんばんは。

「シリコン表面に酸化膜を成膜」とひとえに言っても、色々ありますよね。
・昔ながらのＨ2Ｏ2雰囲気での酸化
・Ｏ2雰囲気での酸化
・常圧ＣＶＤ
・低圧ＣＶＤ
・プラズマＣＶＤ

親水性か疎水性かは、表面の状態で決まるのですから、
基本的に、膜厚には依存しません。
（あるとすれば、表面に欠陥があるとかの要因？）

この関係の仕事から離れてかなり経っているのでよく覚えていませんが、
上記のどれで成膜しても、レジストを乗っける前には、
疎水化処理をしていたような気がします。

以上、ご参考になりましたら幸いです。

お礼

sanoriさん
ご説明ありがとうございました．

私の場合ドライ酸化，アンモニア酸化及びプラズマCVDでの成膜を行いました．

膜厚のことはわかりました．
(表面の基にも依存すると言うこと？)

御回答有難う御座いました．