化合物半導体（GaAs）の自然酸化膜について

質問

化合物半導体（GaAs）を新たに担当する事になりました。そこで疑問なのですが通常のSiでは自然酸化膜（SiO2）が出来ると思いますが・・・同じ様にGaAs等の化合物半導体の表面にも自然酸化膜は出来るのでしょうか？その時に出来た膜の科学式は何になりますか？（酸化ガリウム？酸化砒素？）また、この膜を除去するにはどの様な薬品orガスで処理するのでしょうか？

回答No.1

gandhi- · ベストアンサー

真面目にGaAsを扱ったことはないので、参考までに。
GaAsの場合、単純な化学式で表されるような綺麗な酸化膜が出来るわけではないようです。
化合物ですから、As酸化物、Ga酸化物の両方が混在するようです。
As酸化物はよく知りませんが、Gaの方は、Ga2O3とか聞いたことがあります。

酸化膜除去の方法については、GaAsに関係する文献を参照するのが一番かと思います。
アンモニア系の薬品で除去していたような記憶がありますが…。
きっと文献を調べると詳しいことが書かれていると思います。

お礼

ご回答有り難うございます。
酸化砒素か酸化ガリウムのどちらかと思ってましたが・・・両方が混在!!とは思ってませんでした。
もうちょっと文献を調べてみます。有り難うございました。