窒化ケイ素（Si3N4）について

質問

今、大学で窒化物半導体に関する研究をしているのですが、
その中でデータの１つとして窒化ケイ素（Si3N4）の平衡蒸気圧を調べているのですが全然見当たりません。
論文などいろいろ探しているのですが・・・
見当たるものといえば窒化物半導体であるAlNやGaN,InNぐらい。
似たような仲間で窒化物なんですが、さっぱり・・・

どなたかわかりませんか？
できれば図があるとうれしいです。

回答No.1

Massy57

あまり反応がないようなので、昔の経験から小生がお答えしましょう。
窒化ケイ素は焼成するさい真空中で焼成すると高温で分解してしまうため、窒素を加圧して焼成することがごく一般的な手法です。その際の加圧圧力が10気圧を超えれば、焼成炉は当然高圧装置になり、法律上の成約が厳しくかつ装置全般が高価になるため、如何に加圧圧力を10気圧以下で、満足な製品を得るかが技術的なポイントだったと記憶しています。
そのため窒化ケイ素の平衡窒素分圧は実用上極めて重要なデータでありそれこそ星の数ほど調べられているはずです。そのデータがご発見できないとはいささか腑に落ちません。
ご用途からしてご必要となるデータが高温ではないという点が問題なのかも知れませんが、その際はそこら中にころがっている高温のデータから適当な実験式を見繕われて、ご自分で推察されればそれなりのデータがえら得るのではないでしょうか。
半導体としてのデータはたしかにないかもしれませんが、小生もその後高熱伝導セラミックスや短波長発光素子という流行に身をおいたため、それなりに窒化物の平衡窒素分圧関係のデータも見聞きしましたが、窒化ケイ素のデータがそれらに見劣りするという記憶は全くありません。
温度領域でいささか心配はありますが、すくなくとも高温（1000度以上）での窒化ケイ素の平衡窒素分圧のデータなら山ほど見あたるはずなので、その文献からまごびきされたならご必要のデータがみつかるのでは。
ちなみにgoogleで窒化ケイ素&平衡窒素分圧で検索すると100件以上がヒットしましたのでその中にご必要なデータへの足がかりが必ずや存在推しているものと確信します。

しかし窒化ケイ素が半導体とは・・・・。初耳です。
化合物半導体から離れてて3年、窒化アルミから離れて10年、窒化ケイ素から離れて20年、世の中もかわったものですね。