HF/HCｌのクリーニング

質問

半導体等の洗浄技術である，薬液HF/HCｌを用いたクリーニングのメカニズムを教えてください。

回答No.1

rabbit_cat

「RCA洗浄」で検索されるといくつかの資料が出てくると思います。

基本的には、HFは酸化膜（SiO2）の除去、HClは金属不純物の除去、に使います。