超格子バッファ；格子定数差を緩和？
超格子バッファ層を用いたエピタキシャル成長について質問です。
添付写真or参考URL41ページ目の資料を見て頂きたいと思います。
ＵＲＬ；http://home.sato-gallery.com/education/kouza/heteroepitaxy.ppt
以下の点にヒントを頂けると助かります。
「格子不整合があっても・・・、・・・pseudomorphicに成長
する。」
このpseudomorphicに成長するというのは理解できます。歪層が成長するということだと思います。
しかしこれをそのまま理解すると、超格子の格子定数はいつも
基板材料の格子定数のままエピタキシャル成長し、
その次の「格子定数の異なる基板とエピタキシャル膜を格子整合させることが可能」
という話と矛盾しているように思えます…。
いつまでも基板の格子定数ですので、結局上の膜とは
格子整合しないのではないでしょうか。
超格子層を使うことで、下地の材料と上に成長する材料の格子定数差を
埋めるという訳ではないのでしょうか？
超格子を使うことで徐々に格子定数を変えるような…。（そもそもこんなことは可能なのでしょうか）
超格子バッファ技術についてご存知の方、何でも構いませんので
回答頂けないでしょうか。
宜しくお願いします。
![その他([技術者向] コンピューター) イメージ](https://gazo.okwave.jp/okwave/spn/images/related_qa/c205_1_thumbnail_img_sm.png)
