最近は液浸法といって、ウェハを水のなかにおいて屈折率をあげることで(例えば、ArFの水での屈折率がは1.46です)、NA=1.35くらいを実現しています。
>波長以下の解像はありえないと思うのですが。
普通に、マスクに光を通して、それを結像すると思うとそうなんですが、実際には、いろんな仕組みがあるんです。現在、ArF液浸で、少なくとも22nmプロセスまではいくことがほぼ確定的です。16nm、11nmはArF液浸なのか、EUVに変えるのか微妙ですが、Intelなんか11nmでもArF液浸で行くといっています。
プロセス係数k1ですが、単純な光学系だけではなくて、露光系に工夫を加えるとか、レジストの技術とか、マスク技術とかいろんなことをして無理やり高めています。
ぱっと思いつくキーワードの一覧をあげておくので調べてみてください。
露光系
・RET(Resolution Enhancement Technology)
(輪帯、2重極照明など)
・多重露光
マスク
・OPC(Optical Proximity Correction)
・位相シフトマスク(ハーフトーン型、クロムレス型など)
レジスト
・化学増幅型レジスト
・PEB(Post Exposure Bake)
・反射防止膜
・多層レジスト
お礼
ご解答ありがとうございます。「ITRSロードマップ」これっ!おもしろいですね。SF小説を読む感覚で読んでいます。近い将来にはゲート長が10nm、ウエハー径が450nm、になるとか、、。計算してみると、ウエハーが地球だとしても、ゲートはノートくらいの大きさでした。想像するのも一苦労です。