最新のリソグラフィ技術について

質問

ArF液浸露光、EUVリソグラフィ、F2レーザ、と最新の技術の盛んなリソグラフィ技術ですが、実用化に関してはそれぞれどの程度進んでいるのでしょうか？
自分でもネット上を色々探してみたのですが、過去の記事と現在の記事が乱立していて、よくわかりませんでした。

どなたか詳しい方、まとめて教えていただけないでしょうか？
出来れば実用化の程度とそれを妨げている課題についても教えていただけると助かります。

回答No.1

microftxxx · ベストアンサー

昨年のVLSIシンポジウム（2006 Symposia on VLSI Technology and Circuits）のショートコースで、最新のリソについてのまとめがあったから、半導体関係の研究室、あるいは図書館をあたってみては。議事録かCD-ROMにスライドのコピーがあるから。外から見る分には1年でそれほどかわらないでしょう。

お礼

ご回答ありがとうございます。
参考にさせていただきました。

やっぱりこの分野は日進月歩でどこが最新か、という事を論じるには相当な専門家でも難しいのですね。
色々なニュースサイト等も回って調べてみます。