Si以外の表面へイオン注入

質問

上からAu/Ti/Cu/Ti/Siウェハー（Si以外はすべて各20nm）というサンプルの表面にイオン注入を行うという実験を行うのですが，深さを40ｎｍ未満にして，Cuまでイオン注入されないようにする必要があります．注入イオン種や加速電圧に依ると思うのですが，AuとかTiなどの元素に対する注入深度に関するデータベースのようなものはあるのでしょうか．それとも論文を探ったり，自分でデータを蓄積する必要があるのでしょうか．また，注入後の深度はどのように測定するのでしょうか．イオン注入は触れたことも無いので恐縮なのですが，参考になる書籍なども含めまして，ご教示のほどお願いします．

回答No.1

leo-ultra · ベストアンサー

>AuとかTiなどの元素に対する注入深度に関するデータベースのようなものはあるのでしょうか?

あると思います。しかし、
１）そもそもイオン注入はそこそこ高価な装置ですし、装置の持ち主はイオン注入に詳しい人だと思います。質問者が使用しようとしている装置の持ち主に聞くのが一番早いように思います。

２）それでも分からないようならば、注入深さを計算してくれるフリーのソフトSRIM2003がweb上で入手できます。http://www.srim.org　
★でもこのソフトは日本語Windows上では動きません。
日本語の32ビット文字が悪さをするようです。
ですから英語版のWindowsを入手する必要があります。
（又は日本語Windowsを徹底して英語仕様にする。）

３）別の方法ですが、質問者が学生さんの場合はお薦めるできませんが、大学やら独立行政法人でイオン注入を研究している研究者をwebで探して、メールかなにかで直接質問してみる方法もあるかもしれませんが、
これは最後の手段かも。無視されても怒らないこと。意外に熱心に返事をしてくれる人もいます。

>また，注入後の深度はどのように測定するのでしょうか?
試料を破壊しないで中の分布を測定する方法として、
RBS（ラザフォード後方散乱法）がありますが、加速器が必要。試料を表面からスパッタリングで削りながら測定する手法として、XPS（X線光電子分光）、SIMS（2次イオン質量分析法）などがあります。後は、断面を切り出して、透過電子顕微鏡で見る方法もあります。