水酸化カリウム（ＫＯＨ）とシリコン（Ｓｉ）の反応について

2004/01/07 09:21

はじめまして。半導体の関係で仕事をしているのですが、ＭＥＭＳ（マイクロマシン）などでＫＯＨやＴＭＡＨをシリコンエッチングに使用していると思いますが、その時に気泡が出ると聞いたのですが、本当なのでしょうか？理由なども含めて教えて頂きたいですが、解る範囲だけでも結構ですので、よろしくお願いします。

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2004/01/07 13:08 回答No.1

モノシランガス<ＳｉＨ４>が発生するのではないですか？

質問者

ありがとうございます。勉強いたします。ちなみに、話は変わりますが、ＫＯＨやＴＭＡＨのエッチングレートなどご存知でしたら、また教えて頂けますでしょうか？

2004/01/08 12:33 回答No.2

専門家ではないので、よくはわからないのですが、以前ナノピラミッドの作り方について調べた時のＵＲＬが残っていましたので、ご参考にされると良いと思います。 http://www.fuji-ric.co.jp/st/odette/