エッチピット

質問

シリコンのエッチングについて調べていた所、エッチピットという言葉が出てきました。

調べたのですが、窪みのような物だと思いました。
それが正しいか、だとしたら出来る原因は何なのかなど、
分からない事が多いです。どなたか説明をお願いします。

回答No.2

sanori · ベストアンサー

半導体の仕事の経験者です。

まずは、単語の意味から。
pit
http://eow.alc.co.jp/pit/UTF-8/

エッチピットの主要な原因は、その箇所におけるシリコンの結晶欠陥であると、私は認識しています。（仕事仲間も、そう認識していました）

アルファ線、重粒子線、中性子線などの重い放射線を当てると、結晶欠陥ができます。
下記は、その例です。

重粒子線
http://www.nirs.go.jp/report/nirs_news/9801/hik2p.html

中性子線（ｐｄｆファイルです。６ページ目以降ご参照）
http://www.c-technol.co.jp/pdf/312fbn.pdf

お礼

回答ありがとうございます。

元々の半導体の欠陥であって、エッチングによる腐食が直接の原因ではないのでしょうか？

回答No.4

yonesuke35

他の回答者と同じ回答です。
私なりにやさしく説明したいと思います。　　
シリコンのエッチング液にはいろいろあります。
欠陥を強調したいエッチングをするには遅い速度でエッチングが
進行する液を使います。　ピットはエッチングにより発生することは
確かです。　その原因はピットが発生した部分に不純物あるいは構造的な
不正（欠陥）が有って応力あるいは電気的に一様でない場合エッチングの速度が速まる場合ピットになり逆に遅くなる場合はヒロックと呼ばれる山が発生します。　その他表面の汚れも原因になるかもしれません。
　　昔の仕事を思い出しました。

回答No.3

sanori

再びお邪魔します。

結晶欠陥のある箇所のエッチングレートが高いということです。

回答No.1

santana-3

確かにミクロ的に見ると「窪み」の様な感じです。

エッチピットが出来る原因は多々ありますが、介在している不純物や添加物がエッチングにより不均等に腐食して「アバタ状」になる場合。

エッチング対象物を研磨している段階での、表面に対する研磨剤による攻撃とそれに伴うエッチングによる不均等性。

尚、エッチピットは非鉄金属のエッチングにも多々出現します。

防ぐ方法は、電解エッチングなら電解液の濃度調整と電解の電圧、電流調整。溶液腐食なら腐食液の濃度と腐食時間の調整です。