ラジカル重合の連鎖移動に関する質問です。
ラジカル重合の連鎖移動に関する質問です。
今、大学で高分子合成の研究を行っています。ラジカル開始剤、モノマー、連鎖移動剤の種類・量、反応条件は固定し、溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)で合成したものとプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)に変えて合成したものと比べると、PGM溶媒で合成した方のポリマーのMwが2~3割低くなりました。
この理由として、私はPGMEAからアルコール溶媒であるPGMに変えることで、ラジカル重合中にヒドロキシ基部位由来のヒドロキシラジカルが発生し、溶媒が連鎖移動剤のような役割をしてMwが低くなったと考えました。
しかし、先生はPGMのヒドロキシ基の隣のC-H結合部位へ連鎖移動してラジカルを発生させるから分子量が低くなる、と言います。
自分なりに結合解離エネルギーや、ラジカルの安定性の観点から調べてみたのですが、どうも納得がいきません。
どなたかご教授いただけるとうれしく思います。よろしくお願いします。
お礼
ご連絡遅れ申し訳ありませんでした。 理解できる回答を頂きありがとうございました。