SOG薄膜のイオンビーム照射での問題について

2006/07/14 19:11

このQ&Aのポイント

現在、研究でSOGをシリコン基板の上にスピンコートして薄膜とし、イオンビームを照射する卒業研究を行っています。
しかし、イオンを照射してもパターンが全く残らず、薄膜を作製しただけのものを現像液につけるとすべて除去されることが判明しました。
現在、熱処理温度の問題や使用しているSOG溶液の種類、参考文献や資料の不足などにより、問題が解決していない状況です。

mashat
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物理学
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ベストアンサー

nzw
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2006/07/18 14:30 回答No.1

まず、実験の目的を再確認してください。参考にされている谷口先生の資料のp.32～44の実験のように、SOGを利用した三次元構造を作成されたいのですね？　あなたの場合、この研究のEBを、イオン照射に変更したものを試みられているということでよろしいでしょうか？以下、その前提で話をします。 1）この研究では、照射された部分と、されていない部分で選択エッチできることが必要になります。したがって、照射されていない状況で、エッチ処理後に十分な膜厚が残るような条件を見つけることが、まず最初にすべきことのはずです。その後に、その条件内において、照射部分との選択性が十分得られる条件をみつけるという手順をおこなうべきでしょう。上記、条件として、あなたが何を制御できるのか、熱処理温度だけか、それ以外に制御可能、もしくは検討すべきものはないか、色々と考えてみてください。その際、闇雲に条件を振るのではなく、どうすれば選択性がでるのか、選択性を生む原理まで考察しながら行うことをお勧めします。特に、電子線をイオン線に変更されているわけですから、その変更に伴う差は当然考慮しなければなりません。 2）ご紹介の資料は、口頭発表用の資料なので、こういった資料には実験を再現するに必要な情報をすべて載せきれないのが普通です。特に、この資料はセミナー用ですのでおそらくレビュー的なものなのでしょう。ただ、SOGの種類が記載されていないというのは本当でしょうか？この資料からだけでも、何をつかわれたのか推測できませんか？ 3）論文は検索されましたか？ちょっと簡単に検索してみましたが、参考になりそうな論文がすでに公開されています。論文の検索サイトについては、下の私の別の回答を参考にしてください。検索方法を考えるのも、研究のうちですから、色々工夫してみてください。