工業用に用いられるプラズマの生成法

質問

工業用に用いられるプラズマの生成法はどのようなものがあるんでしょうか？工業用は直流を使用しないと聞いたのですが、、何種類でもよいのでよろしくお願いします。

回答No.2

Massy57 · ベストアンサー

工業的にかぎると
１．直流プラズマ
　　No1さんがおっしゃっているように電極がスパッタされそのコンタミが
　　ひどいですね
２．交流プラズマ
　　電動発電機をもちいた交流～長波長プラズマ　よく大型の誘導炉にも
　　ちいられていますね
３．高周波プラズマ　　１３．５６MHｚ
　　工業用プラズマとしては、よくつかわれる周波数です
　　チューブの外側に、コイルをまく方法、チューブの外側に電極をそれ
　　ぞれ貼り付ける方法、チャンバー内に電球を入れ、高周波を印可する
　　方法などがしられています
４．ECR放電　　
　　評判は高いですが、半導体であまりつかっていないようですね
５．マイクロ波プラズマ　　　2.5GHz（2.54だったかな忘れました）
　　ダイヤモンドの合成で一躍有名になりました
　　キャビティのなかにチューブを通すの一般的ですね　　
ぐらいでしょうか　低周波、高周波プラズマが工業的という点では一般的でしょうか　直流はプラズマ熔射のトーチに使用します。
熱プラズマは省くというと、たしかに直流プラズマはあまりつかわない
ですが、いわゆる陰極ガス放電管なんかは直流プラズマですよね。

回答No.1

First_Noel

直流（ＤＣ）放電だと電極があって，電極材料がまざってコンタミとなります．

そこで電磁波（主にマイクロ波）や電場磁場を使ってきれいなプラズマを作ります．
きれいで均質で大きなプラズマを作ることが大切で，
大きなものができると半導体の蒸着とかのパフォーマンスがよくなります．

ＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）放電では，電磁波によって誘発される電子の振動と，
磁場中の電子が磁場強度に応じて回転運動をする周期とを共鳴させて
電子の運動を激しくし，周辺の原子と衝突させて電離させてプラズマを作る方法です．

また，ＲＦ放電は，コイルに高周波電流を流し，
高速で向きと大きさの変わる電場で電子をゆっさゆっさと揺すって
プラズマを作ります．

他には混成波電流駆動（ＬＨＣＤ，ＨＨＣＤ），中性粒子入射（ＮＢＩ）とかありますが，
これらは大規模になってしまうので，研究レベルでは使われる（例えば核融合研究）ますが，
工業用では使われないと思います．