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ガス軟窒化と拡散層について
- ガス軟窒化処理による化合物層(窒化層)の厚さは時間の増加や温度の上昇によって増加しますが、拡散層についてはどうでしょうか?
- ガス軟窒化処理の際に化合物層(窒化層)が厚くなる一方で、拡散層は特定の条件下では成長しないことがあります。
- ガス軟窒化処理によって形成される窒化層は時間や温度の影響を受けて厚さを増加させますが、拡散層はそれほど厚くならないことが分かっています。
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鋼の物性と窒素 http://www.agne.co.jp/books/ISBN978-4-901496-29-2.htm これにはバッチリ答えがありそう。 専門的で難しい内容なのは明らかだが、所蔵する図書館は意外に多い。 国会図書館検索結果 http://unicanet.ndl.go.jp/psrch/PDetail.do?no=2&tcd=22581096&id=13212524531443083E561168CBDB77ACABF56627D6CC2 拡散層だから固体物理の問題。半導体でよく聞く話で、サイトでも少し論文があるが、Feに対するCNOの拡散についてはホンの落葉ハラハラしか見つかりません。 材料における拡散 http://www.rokakuho.co.jp/data/books/5637.html 大昔からこの分野で研究を主導してきたのは東北大の金研で、上記のものと併せてその流れ。 お住まいの図書館で申込めば他の蔵書も取寄せて貸出ししてくれるので、窒化を理論的に深く知りたいのであれば、挑戦されたらどうでしょう。 回答(1)は何を言わんとしてるのか、私には全く理解出来ません。
ケースバイケースではないでしょうか? 化合物層、拡散層、が、処理時間増にて、 化合物層(厚くなった)、拡散層(厚みは同じでより内部に移動したようになっている) ↑ 、拡散層(より内部に移動したようになっているが移動代が無く薄くなった) 化合物層、拡散層、が、処理温度上昇にて、 化合物層(厚くなった)、拡散層(化合物層が厚くなった割合にて厚くなった) ↑ 、拡散層(より内部に移動したようになっているが移動代が無く薄くなった等) 等々で。 化合物層、拡散層、が、処理温度上昇にて、 化合物層(厚くなった)、拡散層(化合物層が厚くなった割合にて内部に移動して厚くなった) と訂正します。 窒化処理での“化合物層”と“拡散層”の概念は頭に入れておく必要があっての内容です。 iwanaiには無理。
お礼
回答ありがとうございます。なるほど!そういうことですか。拡散層がどんどん厚くなっていくということとは違うということですね。参考にさせていただきます。
お礼
回答ありがとうございます。「鋼の物性と窒素」これはよさそうですね。図書館の利用も検討させていただきます。