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集積回路についての質問
容量を面積100*100μm^2 の対向面積で作るとき、 ・単位面積容量0.32fF/μm^2のpc接合を用いた場合 ・mosゲート容量(酸化膜厚0.05μm, 比誘電率3.9)を用いた場合 ・配線-基板間容量(酸化膜厚2μm, 比誘電率3.9)を用いた場合 にどれくらいの容量が得られるか教えてください よろしくお願いします
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容量を面積100*100μm^2 の対向面積で作るとき、 ・単位面積容量0.32fF/μm^2のpc接合を用いた場合 ・mosゲート容量(酸化膜厚0.05μm, 比誘電率3.9)を用いた場合 ・配線-基板間容量(酸化膜厚2μm, 比誘電率3.9)を用いた場合 にどれくらいの容量が得られるか教えてください よろしくお願いします