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質問者が選んだベストアンサー
質問のポイントが良く分かりませんが、両者には共通点と相違点がありますので、取りあえず主なものを列挙します。 ＜共通点＞ ・権利化したい対象を書面で特定して、特許庁に出願し、審査を経て登録されると独占権が付与されること ・独占権には存続期間が設定されていること ・登録後でも無効にされるおそれがあること ・出願段階でも権利化後でも、権利を他人に移転（譲渡）できること ・権利化後、他人に実施させることができること（ライセンスアウト） ・出願前から、「権利化したい対象」を第三者が実施していた場合に、その他人に継続実施する権利が与えられること（その他人には権利行使できない） ・日本の出願を基礎とする優先権を主張して外国に出願すると有利な取り扱いがされること ＜相違点＞ ・権利化したい対象：特許は「発明」、商標は「商標（マーク）」 ・審査の条件：特許は出願審査請求という手続が必要（３年以内）、商標は不要（出願順に審査される） ・登録要件：特許は新規性・進歩性・先願などが要求され、過去に同様の発明が公知・出願等されていると、未来永劫、同一の発明について権利化できない（過去の発明の発明者・出願人・実施者自身でも）。商標は、過去に出願・登録・使用された商標でも、出願時点で権利消滅等であれば、同一の商標が登録され得る。 ・存続期間：特許は出願から２０年（医薬品に限って最大5年の延長）、商標は登録から10年で何度でも更新可（明治時代に登録された商標権も現存している） ・登録後の取消し：特許では無効（登録時に遡って消滅）のみ、商標では、無効に加えて取消し（取消しまでは有効）がある。3年以上の不使用、他人と混同させるような不正使用などの場合に取消されるおそれあり。 ちなみに、USPTO（米国特許商標庁）でも意匠の出願を扱ってますが、米国では意匠も特許出願の一態様（design patentと言います）なので、日本の特許庁と扱い分野は同じです。
その他の回答 (4)
- trytobe
- ベストアンサー率36% (3457/9591)
細かい点はすでに No.3 で比較されていますので、大まかなところだけ改めて記します。 特許は、ある技術を発明した人を保護するためのものです。特許庁の審査をとおって登録されると、定められた期間、その人が発明された技術を独占できます（その期間内は、その人の承諾がないとその技術がつかえません） 登録商標(Registered trademark) は、商売のときに使う社名や製品名・シリーズ名などを真似されないように登録したものです。よく○Ｒマークが付いていますが、それはこの登録商標のＲの意味です。（登録されていない trademark は単に TM マーク） 例としては、あるハイブリッド車があったとき、その構造などを真似されないようにするのが特許、その名前などを真似されないようにするのが商標です。
お礼
回答有り難う御座いました。
- santamona
- ベストアンサー率61% (26/42)
専門的なものを避け、単純な言葉を使用します。 他人に真似をさせないという面からは似ています。しかし真似をさせない対象（真似から守る対象＝保護対象）は、特許が「アイデア（技術的思想）」であるのに対し、登録商標は「商品などに備わった信用」ということであり、全く違います。 ある一面だけから見ると似ているが、他の面から見ると違うということになります。 もう少し貴方の質問を補足されたらいかがでしょう。こういうことで質問することになりましたとか、貴方の質問の背景や理由を補足されると更に踏み込んだ回答やアドバイスが受けられると思います。
- oniku920
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他人に真似をさせない、 という点では似たようなものです。 ちなみに、数字のみでの商標登録は 難しいらしいです。
- oo14
- ベストアンサー率22% (1770/7943)
特許と商標登録 アメリカではUSPTO すなわち United States Patent and Trademark Office 日本語で合衆国特許商標庁 日本では特許庁が取り扱います。 そういう意味では似たようなものです。 ちょうど間に意匠登録なんてものもありますね。 これも似たようなものです。
お礼
回答有り難う御座いました。
お礼
回答有り難う御座いました。