質問のポイントが良く分かりませんが、両者には共通点と相違点がありますので、取りあえず主なものを列挙します。
<共通点>
・権利化したい対象を書面で特定して、特許庁に出願し、審査を経て登録されると独占権が付与されること
・独占権には存続期間が設定されていること
・登録後でも無効にされるおそれがあること
・出願段階でも権利化後でも、権利を他人に移転(譲渡)できること
・権利化後、他人に実施させることができること(ライセンスアウト)
・出願前から、「権利化したい対象」を第三者が実施していた場合に、その他人に継続実施する権利が与えられること(その他人には権利行使できない)
・日本の出願を基礎とする優先権を主張して外国に出願すると有利な取り扱いがされること
<相違点>
・権利化したい対象:特許は「発明」、商標は「商標(マーク)」
・審査の条件:特許は出願審査請求という手続が必要(3年以内)、商標は不要(出願順に審査される)
・登録要件:特許は新規性・進歩性・先願などが要求され、過去に同様の発明が公知・出願等されていると、未来永劫、同一の発明について権利化できない(過去の発明の発明者・出願人・実施者自身でも)。商標は、過去に出願・登録・使用された商標でも、出願時点で権利消滅等であれば、同一の商標が登録され得る。
・存続期間:特許は出願から20年(医薬品に限って最大5年の延長)、商標は登録から10年で何度でも更新可(明治時代に登録された商標権も現存している)
・登録後の取消し:特許では無効(登録時に遡って消滅)のみ、商標では、無効に加えて取消し(取消しまでは有効)がある。3年以上の不使用、他人と混同させるような不正使用などの場合に取消されるおそれあり。
ちなみに、USPTO(米国特許商標庁)でも意匠の出願を扱ってますが、米国では意匠も特許出願の一態様(design patentと言います)なので、日本の特許庁と扱い分野は同じです。
お礼
回答有り難う御座いました。