ポーラスなNiメッキの形成方法

質問

Niスパッタ膜上にスルファミン酸Niメッキで約５μmの膜を形成していますが、Niメッキ膜をポーラスにして欲しいとの客先要求があります。
メッキ時に発生する泡を対象物に保持して利用したり、メッキ前に対象物にオイルを塗布したりして試作対応している状況です。しかし、量産工程を考えるとこれらの方法は困難が予想されます。
そこでその他に（例えば電気的にとか）Niメッキ膜をポーラスにする方法はないでしょうか。孔の大きさ・比率は問いません。また、マイクロポーラスNiメッキというのがあるという情報を見たのですが、どのようなものなのでしょうか。
以上何卒よろしくお願い致します。

回答No.2

noname#230359

うちではやったことないのですが、二ダックス処理もヒントになるかと思います。二ダックス処理でフッ素樹脂を含浸させなければポーラスなメッキになるわけですから。アルバックテクノさんのHPアドレスを添付します。

参考URL：

http://chemical.ulvac-techno.net/nedox/

お礼

ご回答ありがとうございます。
色々な処理があるのですね。参考にさせて頂きます。

回答No.1

noname#230359

私の知っているマイクロポーラスNiめっきは
非導電性の粒子を、めっき皮膜形成中に同時に析出させて
皮膜中に導体と不導体を混在させるProcessです。
その目的としては腐食電流の分散により、
耐食性の向上を狙ったものです。
詳しくは下記のURLを参考にされて下さい。

参考URL：

http://www.eu.ebara.com/product/products1_02.html

お礼

ご回答ありがとうございました。
参考にさせて頂きます。