ガス流を注入しているコロナ放電装置について

質問

英語の論文を読んでいるのですが

ガス流は、層流に達するように格子を用いて反応器の全断面上の点（150mm）の上に注入される．
（The gas flow is injected far above the point (150 mm) on the whole section of the reactor using grids to reach laminar flow.）

この文の意味が分かりません

ちなみにガス流が注入されているコロナ放電装置はこの図になります

回答No.1

lumiheart

そもそもですが、本件のコロナとは何をする装置なのでしょうか？

貴殿の質問シリーズから
https://okwave.jp/qa/q9344332.html
恐らく静電気除去装置の類かな？と予想してたけど
https://www.keyence.co.jp/ss/ionizer/doctor/jodenki/genri.jsp
http://www.simcoion.jp/seidenki/
さもなくば
ICのシリコンウエハ製造装置の類か？
http://iontc.co.jp/ion_injection/
https://www.ulvac.co.jp/products_j/equipment/products/cvd-system

でも今回の質問から、それらではなさそう
コロナ処理装置
http://www.ekasuga.co.jp/product/36/000032.shtml

何処のメーカの型番は何？
それを明確にすれば解決は早いでしょう

補足

Ion current density profiles in negative corona gaps versus EHD confinements

という論文なのですが，型番などはのっていなくてすみません…