タッチパネルの透明導電性フィルムについて

質問

タッチパネルの透明導電性フィルムの成膜について以下、御教示願います。

(1)ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）膜形成時にアニール処理をするのは、どのような目的があるのでしょうか？
(2)銘柄によって異なるかもしれませんが、一般的なアニール処理の条件を教えてください。
(3)ＩＴＯ膜のＸ線回折によるＤｘ（結晶性）強度を測定する目的は何ですか？
(4)またＤｘ（結晶性）強度とは何ですか？
(5)Ｄｘ（結晶性）強度が大小で、何が変わるのでしょうか？
(6)ＩＴＯの結晶化進行度と表面抵抗とＩＴＯクラックの関係をできればメカニズム説明を加えて御教示願います。

ちなみにタッチパネルは静電容量式です。

回答No.2

noname#230359 · ベストアンサー

アニール処理をする目的：
　成膜したアモルファス状態の透明導電膜は、酸素欠損が非常に多いため、
光透過率は低く、シート抵抗は高いという不都合がる。また、オーミック
コンタクトをとりづらいという課題もある。
　結晶性を上げ、光透過率を上げるとともに、シート抵抗を下げることが
アニールの目的。

アニールの条件：
　添付の特許文献を参照して下さい。
（特許文献は、これ以外にも沢山ヒットしますので、ご自身で検索して下さい）

ＩＴＯの物性について：
　２番目のＵＲＬ（佐藤教授＠農工大）の内容を参照して下さい。

現在は、Ｉｎの枯渇を回避するための、ＩＴＯ代替透明薄膜の研究が盛ん
な状況のようで、ＩＴＯ自体に研究文献は過去のものとなっているようです。
このため、ＷＥＢの検索ではヒットし難いように感じます。

３番目のＵＲＬは、各種透明導電膜の最新技術文献情報の集大成です。
少々高いのが難点。収蔵している図書館を探して、必要なところだけ
複写するようにすれば、出費は抑えられると思います。

http://www.che.kyutech.ac.jp/chem13/Luo2011.pdf

上記は、ＩＴＯ膜についてアニール無しで所要の性能を得ることを目的とし
た論文です。従来技術であるアニールについても記述されていますし、参考
文献も記載されていますので参照なさって下さい。

ご質問者さんのお立場が分かりませんので、想像で記載しますが、
ご質問者さんが製造に携わっていて、御社内に透明導電膜の設計技術者が
いらっしゃるのであれば、社内に問い合わせることが第一と思います。

製造だけを受託しているとすると、委託元には聞きにくいかもしれません。
そこで留まらず、製造品質を維持・向上するためという理由で、適切なルー
トで委託元の技術者に問い合わせることも有効な方法と思います。

ノウハウに関する微妙な部分については明確な回答を得ることが難しいかも
しれませんが、品質維持のための一般論や、公知の文献などについては教え
て貰えるものと思います。

参考URL：

http://www.ekouhou.net/%E9%80%8F%E6%98%8E%E5%B0%8E%E9%9B%BB%E8%86%9C%E3%81%AE%E4%BD%9C%E6%88%90%E6%96%B9%E6%B3%95/disp-A

お礼

非常に御丁寧な回答ありがとうございます。
やはり文献を読まなければ詳細は分かりませんよね。
御参考のＨＰは大変、役立ちました。
ありがとうございました。

回答No.1

noname#230359

恐らく↓以上の情報を無料で得られることは無いであろう
http://www.sanyovac.co.jp/info/faq.html
http://www.film-sheet.com/tech_info/index.html
http://techon.nikkeibp.co.jp/article/WORD/20060922/121370/

>(2)銘柄によって異なるかもしれませんが、一般的なアニール処理の条件を教えてください。
人に聞く前に、弊社の条件は　
「膜厚○○ミクロン、温度○○℃、製膜時間○○秒です」
くらい書きましょうね　　

但し、書く前に御社の特許管理部等に
「ＮＥＴ掲示板に書いても良いですか？」
と、聞いてから書きましょうね

お礼

回答ありがとうございます。
やはり専門情報になると有料になりますよね。
アニール処理に関しては、失礼しました。