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Sn-Biメッキによる膨れとは?原因と対策を解説
- Sn-Biメッキの温度環境下での膨れ現象について説明します。150℃の温度環境下におくと、Cu基板曲げ部に膨れが発生すると報告されています。膨れは内部に空洞が存在し、合金は残存していることが確認されています。また、メッキ電極から離れるほど膨れの発生率が高くなります。
- 膨れの原因について考えられる要素はいくつかありますが、具体的な原因はまだ解明されていません。研究では、Sn-Bi合金の内部への酸化物の浸透や熱膨張係数の不一致、メッキ過程中の水素発生などが関与している可能性があるとされています。さらに、メッキでのブリスター現象も報告されています。
- Sn-Biメッキの膨れ現象に対する対策としては、以下のような事項が考慮されます。まず、メッキプロセスにおいて酸化を起こす酸化物の浸透を防ぐために、密封処理が有効です。また、熱膨張係数の不一致による応力を軽減するために、適切な合金の組成やメッキ後の熱処理が必要です。さらに、水素発生を抑えるためにメッキ過程中の水素の管理も重要です。
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ただの予想ですので参考程度に・・・ ?SnBi共晶温度は139℃のため、150℃では局所的に皮膜溶けが発生しているのかもしれません。 ?極板からの距離により、電流密度が変わります。 そのため、SnBi組成が変わり、?で差が出る可能性があります。 電流密度が低いと、Bi組成が下がるでしたっけ?確認してください。 ?ブリスターが発生するかはわかりませんが、?のめっき溶け部分で応力が発生し、剥がれてしまうかもしれません。 ?単なる密着不足の可能性もあります。 油は付いていないと思うので、めっき直前酸処理条件を検討してはいかがでしょうか。
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?加熱試験について どのような環境で、何時間の試験でしょうか? また、加熱時に熱の偏りは発生していないでしょうか? (膨れ部分に熱負荷が多いなど) ?素材Cuの上に直接SnBiめっきでしょうか? 弊社では、無電解Snめっき後にSnBiめっきをおこなっているので、その無電解Sn層が"?層"かなと思ったのですが・・・ もし違うなら、'銅が多めの合金層'と'銅が少なめの合金層'に分かれているのではないでしょうか。(合金比率はわかりませんm(_ _)m) 合金層と合金層では密着性が悪くなるものがあります。 (Au-Sn合金層のことなので関係ないかもしれませんが・・・) ?断面観察 膨れ部分のFIBだけではなく、正常部分のFIB観察をしてください。 正常部分にも?層があるなら、その膜厚が?μm(?nm)なのか比較してください。 ちなみに、工程内で酸化皮膜が取れないということは、素材にも問題がある可能性があります。 前処理だけではなく、めっき直前の素材も疑ってみてください。 ?もし酸化皮膜なら、酸処理の濃度を高くするなど検討してください。 また、膜厚を薄くすることで膨れにくくなると思いますので、規格範囲内で検討してみてください。
お礼
コメント頂きまして、誠にありがとうございます。 ?加熱試験について どのような環境で、何時間の試験でしょうか? また、加熱時に熱の偏りは発生していないでしょうか? (膨れ部分に熱負荷が多いなど) ★雰囲気は大気。温度125℃ 10Hです。詳しくは述べられませんが 専用のベーキング炉であるので加熱時熱隔たりは考慮しております。 ?素材Cuの上に直接SnBiめっきでしょうか? 弊社では、無電解Snめっき後にSnBiめっきをおこなっているので、その無電解Sn層が"?層"かなと思ったのですが・・・ もし違うなら、'銅が多めの合金層'と'銅が少なめの合金層'に分かれているのではないでしょうか。(合金比率はわかりませんm(_ _)m) 合金層と合金層では密着性が悪くなるものがあります。 (Au-Sn合金層のことなので関係ないかもしれませんが・・・) ★ストライクメッキ等はしておりません。Cu基材にSn-Bi電着です。 自動制御された自動ラインでメッキしています。 2つの合金層に関するコメント参考になりました。ありがとうございます。 ?断面観察 膨れ部分のFIBだけではなく、正常部分のFIB観察をしてください。 正常部分にも?層があるなら、その膜厚が?μm(?nm)なのか比較してください。 ちなみに、工程内で酸化皮膜が取れないということは、素材にも問題がある可能性があります。 前処理だけではなく、めっき直前の素材も疑ってみてください。 ★正常品も実施しております。合金層部1層、2層の比率に差があります。 1層目膜厚(Cu基材の上) 悪>良 2層目膜圧(1層目の上) 良<悪 ?もし酸化皮膜なら、酸処理の濃度を高くするなど検討してください。 また、膜厚を薄くすることで膨れにくくなると思いますので、規格範囲内で検討してみてください。 ★ありがとうござます。検証してみます。
お礼
コメント頂き感謝申し上げます。 膨れの部分をFIBと電子顕微鏡で確認した結果 ・膨れ部分は合金層間で破断し膨らんでいる。 ・Cu基板最層面に何か層があって(恐らくCu酸化膜?) その上にCuとメッキの合金層がある。膨れるものは基板最層面の?層 膜厚が厚いです。 前処理関係起因でしょうか?