※ ChatGPTを利用し、要約された質問です(原文:XPSの精度について)
XPSの精度について
XPSで金属試料を測定しているときに
例えば20回同じ条件で測定してその平均を取る場合で、
時々、明らかに違う強度のバックグラウンドとピーク高さがでる時があります。
これは高くなるときもあり、また低くなるときもあります。
これじゃ平均するにしてもばらつきが出てしまいますよね・・。
これはX線を試料に当てていても、
同じ時間間隔で光電子が放出されていないということでしょうか。
また測定しているうちに試料に気体分子が吸着してIMFP(光電子の非弾性衝突を意味する平均自由行程)が変化することがあるのでしょうか。
それとも私が扱っている機器に何らかの支障があるのか・・・・。
X線源の配線が一本切れやすくなっているのもあります。。
(切れるたびにハンダで修理してます)
アドバイスを戴けたら幸いです。
お礼
回答ありがとうございます。 蒸着する前の下地の金属は測ってみています。 その薄膜を見るスペクトル領域での、下地金属のノイズですが、 これがまたかなり変動するのです・・。 pass energyを23.5~29でやることが多いのですが、 23.5の時ではノイズ強度が2300(c/sec)だったのが、 いきなり1800になってみたり、そこから2000に持ちなおしてみて・・・・ というようにとてもランダムでした。 128yenさんのおっしゃるとおり、装置の問題なのかもしれません。 エージングもそれにかかわってくるのですね。 フィラメントからの熱電子を一定にしたいために時間をかけて 準備運動させるというように解釈しましたが、 薄膜の場合はそれが必須のような気がしてきました。 今度の実験で試してみます。 同じチャンバー内に・・・・ ”in situ”ってやつですよね。 一応装置にAESはついていますが、LEEDを無理やりAESに仕様変換したもので 先輩の話ではあまり精度はよろしくないようです。 ;-; AFMもあるにはありますが・・・・大気にさらさなければならないので。。 組成が変わってしまいそうで信頼度がガクッと下がりそうで怖いです(笑)。 それにしても200回測定ってすごいですね・・・