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AlN基板ホルダーの洗浄方法と業者探し
- 真空成膜装置の基板ホルダーに付着したCu膜を洗浄する方法を探しています。
- 洗浄後に再度真空装置内で使用するため、AlNのダメージが心配です。
- AlN基板ホルダーの洗浄を行ってくれる業者をご存知の方、教えてください。
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硫酸 2025vol%、過酸化水素 23vol%で、室温30℃で作業します。 反応で発熱しますので、冷却が必要かも知れません。温度が高くなると過酸化水素が自己分解して、暴走することもありますが、液に対する負荷がそんなに高いとも思えないので、まず大丈夫でしょう。
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窒化アルミニウムなら、一般の酸に対しては安定だと思います。 硝酸とは書きましたが、亜硝酸ガスが発生するので余りお勧めできません。硫酸+過酸化水素+水は多少ミストが発生しますが、剥離速度が魅力です。 アンモニア水+過酸化水素+水も剥離速度で魅力的ですが、アンモニア臭と排水処理の困難さがついてきます。 よって、排気設備を用意して頂いて、硫酸+過酸化水素系をお勧めします。
お礼
ご回答ありがとうございます。 できましたら具体的な硫酸+過酸化水素の濃度、混合比、注意点など教えてください。
銅を溶解除去するのなら、単純に硝酸や、硫酸+過酸化水素水で可能です。 AINがどんな材料なのか判れば、もっと正確にお答えできるのですが。
補足
ご回答ありがとうございます。 AINではなくAlNです。(念のため) 一般的には以下のような特性のようです。 http://www.maruwacera.co.jp/e/seihin/pdf/catalog/aln/aln.pdf
物理的な研磨でも良いのですか? ブラシで研磨可能です。 ブラシの選定、加工方法によっては基材を痛めずに研磨可能です。(膜よ基材の硬度差がある場合。) ブラストでも同様です。 その他にも、ご興味が有ればご連絡下さい。 ご相談に乗ります。
お礼
ご回答ありがとうございます。 残念ながら物理的な研磨はダメージが入るのでできません。 このAlNの表面には非常に微妙な加工がしてあるので、 傷がつく方法は問題があります。 それなので洗浄(塩化第二鉄?)がよいのですが...
洗浄で落とすとなると確かにダメージが心配だと思います。ですので、AlN基材上に溶射膜をつけてその上にCu膜を付けます。そうするとAlNにほとんどダメージを与える事無く除膜洗浄可能です。溶射膜でもいろいろな種類がありますので、目的に応じたものを適用できると思います。半導体や液晶のスパッタシールド等ではこの方法が主流となっています。 一度詳細お聞かせください。
補足
ご回答ありがとうございます。 このAlNにはなぜか溶射膜がついていません。 今となっては、なぜないかはわかりません。 ついていても問題はないのかもしれませんが、 特性が変化する可能性があるのが心配です。 それなので、今のところ溶射膜なしでいきたいのですが....
お礼
ご回答ありがとうございます。 まず試しに少しやってみます。 いろいろありがとうございました。