半導体基板 表面汚染について

質問

半導体基板表面汚染について質問です。

半導体基板表面汚染にはパーティクル汚染、金属汚染や化学汚染などがありますが、
?　金属汚染原因の一つであるアルカリ金属の残渣上限値（品質基準値）
?　無機汚染原因の一つである塩基、酸の残渣上限値（品質基準値）

少なくともこの数値以内であれば不良や欠陥は起きないだろうと思われる数値
はあるのでしょうか？

回答をよろしくお願いいたします。

回答No.1

noname#230359 · ベストアンサー

工程にもよるでしょうが、学会論文やSEMI関連の書籍に記載があったと記憶しています。

昔の話しでして、その時の数値がトレンドのデザインルール値だったかは記憶にないです。

また、ドーピングによる経時欠陥をどうみるかや、実際は数値より高い値でメーカーは
管理するものだが、最高水準値（できるだけ低い値）で管理し、半導体ユーザーへの
プロセス保障値として提出しているのが一般的でしょう。
（殆ど、外部にでないけど。十数年前にSAMSUNGが多様なデータを出した事があるけど）

デザインルール毎に、確率論でパーティクルは0.***μｍが何個以内、金属イオンは
10マイナス**とターゲットが決まります。

そして、それが検査確認できる検査器も装置と同様に開発が進められます。

その値であれば、本文に記述の書籍に出ていると考えます。

DNSさんに失礼な記述をするんではない。

何故、回答が見えるのかが解らない。

通常は、非表示になるんですよね、サイト管理者さん。

お礼

回答ありがとうございます。

情報を集めるためにインターネットにて検索をおこなったのですが、具体的な数値が見つからず困っておりました。

やはり品質保証資料を参照するほかにはなかなか情報が得られないようですね。
学会論文やSEMI関連の書籍から探してみます。

大変参考になりました。ありがとうございました。

回答No.3

noname#230359

はい、その数値が簡単に割り出せて簡単に実現できる領域にあれば
半導体プロセス技術者のかなりの部分が失業してしまいます。
最新プロセスでその相関関係を解析するのを生業とする会社もあります。

陳腐化したプロセスではかなりの確度での検量線が引けますが
今更まとめて学会公表しても誰も得をしないので明かされることは無いですね
大学などにスライドしてきた方にこっそり聞くくらいが早道でしょうか。

お礼

回答ありがとうございます。

なるほど、やはりなかなか情報を得るのは難しいようですね。
数値を出すための企業が存在していることを見ても一筋縄ではいかないようですね。

参考にさせていただきます。

回答No.2

noname#230359

これは外堀から知ることが出来れば早いですが。
大日本スクリーンなど洗浄機メーカ。話次第であの社の要求仕様はコレコレなので、この機種が・・・とか。流石にサイトに数値は出ていない。

半導体、液晶は、そのせいもあって技術流出した。

逆に先端技術ではないように見える電子部品、自動車部品など、製造設備専業メーカが無い品種分野では流出が遅く、今回供給不安を招いた。

化学関連会社と話するチャンスがあったので、この話をぶつけてみました。

ユーザーと共同開発しており守秘義務は厳しい。しかし製品はそれ以外にも売っている。
社内でも情報にアクセス出来る人間は限定。だがテーマ共通なら、担当ユーザー毎の技術者の間での会話まで禁止することは現実問題として無理。

裾野広い分野で係わる技術者も多いから、ヤッパリ拡散していくでしょうねぇ～

お礼

回答ありがとうございます。

外堀から知るのが早いようですね。
メーカーの要求仕様から基準値を設定(?)するといった形でしょうか？
なかなか情報を得るのは難しいですね。

ありがとうございました。