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※ ChatGPTを利用し、要約された質問です(原文:基板上での薄膜形成について)

基板上での薄膜形成について

このQ&Aのポイント
  • Si基板とガラス基板に薄膜を作製するための基板洗浄の必要性について質問です。
  • Si基板の洗浄には濃硫酸:過酸化水素水=3:7のRCA洗浄が一般的ですが、この方法は必要なのでしょうか。
  • ガラス基板の洗浄には溶剤+純水で十分なのか質問です。

みんなの回答

noname#230359
noname#230359
回答No.1

ガラス基板に薄膜を作製するための洗浄研究を行っています 現在、洗浄レベルや汚れの対象が年々変わるため 「洗浄レベルを明確にして、洗浄方法を検討されることを進めます」 各社、洗浄方法はブラックボックス化させていますが洗浄対象が高くなると 化学反応を利用した数種類(オゾン・光・超純水 等)の方法で検討しているようです

参考URL:
http://www.green.dti.ne.jp/aabccdx/