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半導体などでSC-2（HCｌ＋H2O2+H2O）洗浄が用いられますが，HCｌはどの様な役割でしょうか？ プールべ線図からpH=0～2の領域では金属汚染物はイオンとして存在し，溶解除去されると本には書いています。 HCｌを用いてpHを下げているのでしょうが，HCｌ自身が金属汚染物にどの様に作用しているのかをお知らせください。