フォトレジストの基板密着性について

質問

実験で、熱酸化膜付きのSi基板やガラスにポジ型のフォトレジストをスピンコート塗布～パターニングしてエッチング処理を行っています。

熱酸化膜とフォトレジストの密着性は良いのですが、
ガラス(おそらく石英)とフォトレジストの密着性が悪いです。
どちらもSiO2だと思うのですが、なぜ密着性に差が出るのかご教授いただけませんか。

回答No.1

akira0723

内容が良く把握できませんので当たるも八卦ですのでご了承ください。
密着と言われている現象は界面の「濡れ」のことでしょうか？

両方の表現がガラス（SiO2）だとすると期待できる密着はガラス表面のSiOH（シラノール）同士の（会合性：SiOｰHｰOSI）濡れが期待できます。

しかし、ガラス表面には多くの水分子が付着しており、表面状態が大げさに言うと刻々とバラついていることに起因しているのではないでしょうか？

用途は違いますが一般にシランカップリング剤と呼ばれているシリコン化合物でガラスやシリカの表面を処理すると非常に良好な接着が得られる事例は一般によく知られています。

間とハズレご容赦！！